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      plasma植入式等離子發生器
      來源:本站   發布時間: 2019-06-05 15:40:48   瀏覽:2489次  字號: [大] [中] [小] [收藏]
      植入式等離子體發生器有效地使植入物表面功能化和清潔滅菌,以優化其表面特性。 通過用大氣壓等離子體對表面進行功能化,清潔表面,對植入物進行滅菌并降低感染風險。 改善的潤濕性促進了植入物表面的細胞形成,并且加速了愈合過程
      plasma植入式等離子體發生器有效使植入物表面功能化和清潔滅菌


      植入物的功能化
      使用CeraPlas技術



      醫用工程材料如氧化鋯陶瓷或鈦和不銹鋼,以及PEEK、聚四氟乙烯、硅樹脂和高填充聚合物可以有效地優化其潤濕性能。 該性質是良好的粘合劑粘合或生物相容性以及周圍活組織的接受性的基礎。 該技術已經使用多年,以使牙科植入物功能化。 通過用大氣壓等離子體對表面進行功能化,清潔表面,對植入物進行滅菌并降低感染風險。同時,植入物的表面能增加。改善的潤濕性改善了植入物表面上的細胞沉積并加速了愈合過程。


      醫學和牙科植入物都必須無菌,并具有良好的濕潤性,以降低感染、炎癥或被周圍組織排斥的風險。新的植入式制劑概念提供了一種快速和簡便的植入物處理方法,可以減少表面的細菌,同時通過使用大氣壓等離子體增加其濕潤性。

      緊湊型電離腔室不需要外部氣體輸入,在大氣條件下工作,使用創新、緊湊的等離子體形式產生非熱或等離子體。基于世界上最小的等離子體發生器之一,Ceraplas F-Type,高效PDD(壓電介質放電)技術®可用于各種需要很少空間和功率的應用。

      implaPrep是用于功能化植入物以優化其表面特性的新設備。 該裝置能夠在植入前立即進行自動等離子體處理。 將植入物置于小室內,按下按鈕開始30秒的等離子體處理。 為了確保植入物被均勻地處理,它在等離子體放電之前旋轉。 處理后,產生的臭氧在10秒的過程中被活性炭過濾器自動中和。 所有處理步驟均由顯示屏和LED信號指示. 通過用大氣壓等離子體對表面進行功能化,清潔表面,對植入物進行滅菌并降低感染風險。 改善的潤濕性促進了植入物表面的細胞形成,并且加速了愈合過程.

      植入劑是一種新型的功能化植入物,用于優化其表面性能。該裝置可在植入前立即進行自動等離子治療。植入物被放置在一個小室中,在這個小室中,按下一個按鈕就可以開始30秒的等離子治療。為了確保植入物被均勻處理,它在等離子放電前旋轉。經過處理后,產生的臭氧在10秒鐘的過程中被活性炭過濾器自動中和。所有治療步驟都由顯示屏和LED信號指示。通過使用大氣壓等離子體使表面功能化,表面清潔,植入物消毒,感染風險降低。改善的濕潤性促進植入物表面的細胞形成,加速愈合過程。


      技術

      RP Plasma開發了PDD技術®(壓電直接放電),用于特別緊湊的等離子體生成。 PDD Technology®基于開放 壓電變壓器(PT)的直接放電。 PDD®技術可轉換低輸入電壓。這導致高電場強度。這會使周圍的工藝氣體 - 通常是空 氣 電離并離子化。消毒主要通過用臭氧氧化產生氣味的分子和微生物來進行。


      優勢
       
      植入式等離子的優點是顯而易見的:
      • 小巧緊湊
      • 經過驗證的安全應用
      • 最終用戶非常容易處理
      • 由于熱量損失低,因此非常節能
      • 非常環保,不需要輔助材料,如化學品或添加劑
      使用方便

      • 操作僅需24 V(標準插座的電源)

      • 高效安全地激發氣體分子

      • 極高功率密度的緊湊型設備

       

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